工程师稍有些迟疑,“理论上没有人这么做过,而且这么做会影响到整台机器,弗里克先生,您还好吗?”
影响整机吗?
光刻机是庞然大物,可谓牵一发而动全身。
秦蓁的提议不可行,如果整机受到影响,那么不单影响他们的交货速度,就连研发进度都会被耽误。
他怎么还是被那三言两语蛊惑了心智呢?
弗里克笑着松开了手,温和有礼道:“谢谢。”
工程师看着极为绅士的老板,摇了摇头,“这都怎么了?”
……
八月底的时候,秦蓁收到了弗里克的邮件。
原因倒是再简单不过。
就在三天前,美国的半导体公司AMD与一家小型的中国的半导体制造厂商签订了采购合同。
这种采购合同并没有什么奇怪的。
但是这五台光刻机,却足以让整个IC产业地动山摇。
一直以来,困扰着IC产业的193nm光源问题解决了。
尼康的157nm没能取得进展,阿斯麦尔的极紫外光还没取得突破性研究成果之际,在中国的那个小城市,那个不起眼的小城市,推出了采用132nm波长光源、双工件台的光刻机。
超越193nm!
这个几乎让摩尔定律都失效的波长,终于被突破了。
媒体后知后觉,当他们从旧报纸里找到嘲笑秦蓁的湿刻法方案的旧闻时,有的人脸上一阵臊红。
还有的,死鸭子嘴犟。
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