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摩尔定律表示, 集成电路的密度每两年翻倍，翻倍的前提是光刻技术的提升，降低曝光关键尺寸（CD）。

瑞利公式CD=k1*（λ/NA）

根据瑞利公式，想要降低CD值，可以通过降低波长λ、降低综合因素k1以及提高镜头的数值孔径NA。

在k1和NA数值变化范围很小的前提下，降低λ是光刻机厂商的最优解。

然而IC产业和科学家们在过去十多年里都没有解决这一问题。

波长λ依旧是193nm。

为了从193nm突破到157nm，学术界和产业界不知道提出多少种解决方案，甚至形成多个阵营，却始终没能成功的超越193nm方案。①

这也就意味着，即便是最畅销的PAS5500，也只是山中无老虎猴子称霸王而已。

解决不了光刻光源，光刻机只能小打小闹。

可即便如此，制造商也有歧视链。

比如佳能作为老牌的光刻机制造厂商，就瞧不上新晋的阿斯麦尔。

更瞧不上中国的半导体产业。

不管是晶圆生产线，还是半导体设备制造厂。

大概觉得秦蓁不太会说日语，跟在后面的几个年轻工程师也在那里小声嘀咕。

秦蓁想起了什么回头望去，“听说这次阿斯麦尔的PAS5500用的是蔡司提供的镜头。”

这话让那几个工程师一脸的尴尬。

尼康也好，佳能也罢，能够在光刻机制造领域有一席之地，和他们能够生产专门配套的镜头不无关系。

毕竟在瑞利公式中，NA也是关键数值。

创业之初阿斯麦尔就想要用德国蔡司的镜头，然而蔡司并不搭理这个只有三十来人的草台班子。

没办法阿斯麦尔找到了法国巴黎的一家小型光学公司CERCO，定制镜头。②

只不过相较而言，尼康和佳能的镜头性能更优越。

和CERCO保持合作之余，阿斯麦尔倒也有和日本这边有合作关系，只不过这种合作关系伴随着阿斯麦尔单挑日本光刻机两巨头而破裂。

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